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CHIAPPIM, W.; TESTONI, G. E.; PESSOA, R. S.; FRAGA, M. A.; MACIEL, H. S. Plasma-assisted atomic layer deposition of TiO2 thin films: effect of direct plasma exposure during deposition on film structure and morphology. In: INTERNATIONAL CONFERENCE ON ADVANCED NANOMATERIALS, 7., , Aveiro, Portugal. (campo ausente ou vazio: 'booktitle') 2016.
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... como proposto por Chiappim et al. (2016).
... pode ser encontrada na literatura (CHIAPPIM et al., 2016).